德国蔡司:光刻机芯片制造之争幕后之“王”

   最近光刻机闹得沸沸扬扬，可能您只知道德国蔡司三坐标很有名很多企业都在用，却不知道，荷兰光刻机的真正幕后之王也是蔡司。

 　　从中兴事件到华为全球芯片供应链承压，芯片成了国人之痛。甚至有人调侃，“难道芯片比原子弹还难造?”

　　其实，很多公司都可以设计开发芯片，也可以制作晶圆，但由ASML生产的顶级光刻机却很难被超越。

　　为什么AMSL在光刻机市场能有如此地位?其实ASML身后，背靠的是一大批欧美的先进技术支撑，正是因为有了德国机械工艺、蔡司光学系统和美国公司提供的光源，ASML才得以迅速崛起。

　　光刻机制造，涉及光源、透镜、掩膜版三大核心部件。目前较先进的极紫外(EUV)光刻机，也在依赖蔡司的光刻光学镜头组和掩膜版解决方案。

　　可以说，没有蔡司，ASML的极紫外(EUV)光刻机也无从谈起。

　　芯片制程的战火，正从前两年炙手可热的10nm、7nm向更为领先的6、5、3nm蔓延。而EUV光刻可以说是人类制造技术的极限，承载了芯片制程工艺尺寸走向5nm、3nm的希望。随着AI和5G的发展，更多新的软硬件载体将层出不穷，而率先掌握先进制程的研发者，更有希望在未来拔得头筹。

　　于是我们看到，2016年ASML以10亿欧元收购了蔡司半导体制造技术事业部24.9%的股权，强化双方在光刻技术领域的合作，并将在接下来的6年投入7.6亿欧元推动蔡司研发新一代EUV光刻设备将要搭载的更大数值孔径光学系统。

　　全球80%的电子业与半导体芯片使用蔡司微光刻透镜制造，比头发丝细4000倍的半导体结构只有蔡司的光刻技术能够实现。

　　此刻，或许蔡司正在电脑、手机里为你服务，你却浑然不知。

　　自1968年第一次为电路板曝光设备提供镜头以来，蔡司已涉足半导体领域52年，推动芯片制程工艺尺寸缩小了三个量级。

　　我国也在加紧研制光刻机，2018年底，由中科院光电所研制的光科技可用于制造10纳米级别的芯片。但对于国产芯片产业链而言，依旧还有很长的路要走。据业内人士透露，预计到2020年年底，ASML将向中芯国际交付EUC光刻机，届时国产芯片或将迎来重大突破。

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